最近英特爾在ISSCC 2025上，藝良介紹了備受期待的品率Intel 18A工藝技術(shù)，其中強(qiáng)調(diào)了SRAM密度的不佳重大改進(jìn)。同時(shí)在官網(wǎng)更新了Intel 18A工藝的量產(chǎn)信息，表示已經(jīng)為客戶項(xiàng)目做好準(zhǔn)備，計(jì)劃巨將于2025年上半年開始流片。面臨為了在Intel 18A工藝上爭(zhēng)取更多外部客戶訂單，障礙英特爾可以說在營(yíng)銷上做足了功夫。藝良
據(jù)媒體報(bào)道，品率目前首批采用Intel 18A工藝的不佳Panther Lake工程樣品正在由主要PC ODM/EMS制造商進(jìn)行測(cè)試。初步的量產(chǎn)調(diào)查顯示，Intel 18A工藝的計(jì)劃巨良品率僅在20%至30%之間，還有很大的面臨提升空間，現(xiàn)階段幾乎不可能大規(guī)模生產(chǎn)。障礙按照英特爾的藝良計(jì)劃，Intel 18A工藝將在2025年下半年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，但是以現(xiàn)在的進(jìn)度，很可能難以實(shí)現(xiàn)既定目標(biāo)。
除了Panther Lake外，Clearwater Forest和Diamond Rapids都會(huì)采用Intel 18A工藝，另外美國(guó)國(guó)防部、亞馬遜AWS和微軟Azure也將使用該制程節(jié)點(diǎn)。如果Intel 18A工藝的良品率問題得不到解決，不但自己的產(chǎn)品受到影響，也將對(duì)合作伙伴造成困擾。
不過英特爾也有好消息，傳聞早期測(cè)試中，High-NA EUV光刻機(jī)的可靠性比前代產(chǎn)品高出一倍，一個(gè)季度內(nèi)已經(jīng)加工了3萬片晶圓。同時(shí)英特爾還將處理過程從三次曝光和40個(gè)步驟減少到一次曝光和個(gè)位數(shù)步驟，節(jié)省了時(shí)間和成本。英特爾計(jì)劃使用High-NA EUV光刻機(jī)來開發(fā)Intel 18A技術(shù)，為下一代Intel 14A全面部署這些機(jī)器做好準(zhǔn)備。